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詳細情報 |
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| マシン名: | ナノスケールビーズミル | モデル: | KNB-L-2L |
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| バッチサイズ: | 5-50L | 電源: | 380V/50Hz/60Hz 3相 |
| 力: | 7.5kw | 重さ: | 治療部位により異なります |
| 寸法: | 980*750*1550 | ||
| ハイライト: | ナノ ロッド・ピンの実験室のビードの製造所,実験室のビードの製造所7.5KW,ナノの実験室のビードの製造所50L |
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製品の説明
テンカン KNB-L-2L 7.5KW ナノ棒ピンビーズミール,ラボナノビーズミール
仕様
| モデル | アクティブ・ボリューム |
パワー (KW) |
バッチサイズ (L) |
バッチサイズ (L) |
メディアサイズ (mm) |
体重 (kg) |
サイズ (mm) |
| KNB-L-1L | 1L | 5.5 | / | 3〜30 | 0.03-10 | 200 | 530*470*625 |
| KNB-L-2L | 2L | 7.5 | 4 | 5〜50 | 0.03-10 | 500 | 980*750*1550 |
| KNB-L-6L | 6L | 18.5 | 7.5 | 15〜100 | 0.03-10 | 1200 | 2000*1250*1450 |
| KNB-L-10L | 10L | 22 | 11 | 30〜200 | 0.03-10 | 1400 | 2200*1250*1500 |
| KNB-L-30L | 30L | 45 | 18.5 | 60〜500 | 0.03-10 | 2100 | 2350*1550*1850 |
| KNB-L-60L | 60L | 75 | 22 | 150から1000 | 0.03-10 | 3600 | 2600*1750*1900 |
| KNB-L-150L | 150L | 185 | 30 | 300から3000 | 0.03-10 | 7500 |
3200*1900*2100 |
特徴
1動的遠心分離システムで0.03mmの磨き媒体に適応
100nm以下の超微細磨き要求を許容する.
2半導体分離システムの完全新しい構造設計により,粒子の漏れを防ぎます.
3画面なしの分離システムは 決して出口を遮らない
4高効率と狭い粒子のサイズ分布を保証する棒ピン磨きシステム
5漏れを防ぐための高度な機械密封技術
6圧力と温度 自動安全保護装置
6選択製品 異なるグリニング要件を満たすために接触材料.
7触覚画面またはPLC制御パネル,操作が簡単です
2L の実験室試験から150L の生産まで
KNB-L-2Lは1L,6L,10L,30L,60L,150Lの機械も含むKNB-Lの数列のビーズミールで,実験室のエントリーポイントです.シリーズ内のすべてのモデルは,同じ棒ピンローターコンセプトに構築されていますこの共有プラットフォームは,プロセスの開発に実用的な結果をもたらします.2リットルの機械で最適化された配合は,より大きなKNB-L工場に移動することができ,スケールアップリスクははるかに低い機体が大きくなるにつれて 磨きメカニズムは変化しないからです
KNB-L-2Lは,水性および油性スラムに設計された湿加工機械で,粘度が20,000 CPSまで.フィードは,初期粒子サイズが50 μmまで入ることができます.そして,磨き後,典型的な微細度は0に達します.動的遠心分離システムと共に最小の0.03mmのビーズを使用すると,100nm以下の結果が得られる.機械はしばしばナノビーズミールとして記述されている理由.
連続運転と汚染に敏感な製品のために設計された
数珠 磨き 機 は,しばしば 長時間 働い て い ます.それゆえ,中断 さ れ ない 動作 と 清潔 な 結果 が 必要 です.KNB-L-2Lは,スクリーンを含まない遠心分離システムで,室内に磨き粒を保持高度な機械密封装置により,駆動軸に沿ってスラムが漏れることを防ぎます.自動圧力と温度保護装置は,動作条件が通常の範囲を超えた場合,安全にマシンを停止している間.
溶液に接触する部品は,ローターと内部シリンダーでセラミック,硬合金,ウォルフスタンカービッド,ポリウレタンで供給できます.リチウム電池電極スラージーのような汚染に敏感な製品では,適切な接触材料を選択することが最も重要です.薬剤,ススペンション,化粧品,高品質のインクや塗料,金属の磨き粒子も少量で一批を損なう可能性があります.タッチスクリーンまたはPLC制御パネルは,日常操作をシンプルに保ち,ディスプレイに直接実行状態を表示します.
配達と技術支援
KNB-L-2Lは,380V,50/60Hzの三相電源で7.5kWのモーターで駆動される.重量は約500kg,尺寸は980×750×1550mmで,典型的な実験室とパイロットプラントのレイアウトに適合する.TENCANは複合板ケースで機械を輸出する通常,支払後10~15営業日以内に,工場は月に最大50セットまで供給できます. 最低注文は1セットで,T/Tによる支払いが受け入れられます.機械にはCE認証がある.
テクニカルデータ
- 初期粒子の大きさ:<50um
- 地面から:0.05-1um
- 溶媒:水基,油基
- 粘度:<20000CPS
- 磨き媒体の大きさ:0.03-1.0mm
- ローターの材料:セラミックス,硬合金,タングステンカービッド,PU
- 内部シリンダー材料:セラミックス,硬合金,タングステンカービッド,PU
珠のミルのプロシュート
数珠磨き機とは?
濡れ磨きビーズミールは,液体中の固体の超微細加工のための機械の一種です. 磨き媒体を介して高エネルギー入力で,分散に強い切削と衝撃力を生み出すために,溶液中の粒子を分解し同質化する.
その利点は?
ハイブリッタ・ビーズ・ミルの選び方 キーポイント
A. 数珠工場の流量速度は,粒子が磨き地内にどれくらい滞在するかによって決定されます.これは粒子の細さ,出力,粒子のサイズ分布に影響します.
B. ローターの線形速度は,磨き効率に影響を与える磨き媒質に転送された運動エネルギーの強さを決定します.微粒子の細さや磨き媒体の磨き損12~16 m/sは通常動作速度である.
C. 磨き媒体のサイズ選択は,通常は目標粒子のサイズ1000倍である重要なポイントです.理論的には,小径の小径は,より小さな粒子の大きさで達成されているしかし,それはまだ最初の粒子のサイズのような多くの要因に依存します. 我々は,異なる磨き要件に合うために正しいビーズを選択する必要があります.
D. 一般的に,磨き媒体の詰め込み率は高く,磨き効率は高く,製品の粘度に応じて詰め込み率は約75%~90%です.高温問題とシートブロックを引き起こす.
E. 磨材の散布密度 - 散布密度が高くなるほど,動きの中でより強い切断力と衝撃力が生じ,磨き効率が向上します.
F. 分離スクリーンのギャップは,通常,磨き媒体の直径の1/2-1/4倍です. 粒子の初期サイズがはるかに大きい場合,シートをブロックすることがあります.2つの段階の磨きプロセスを考慮する必要があります.
作業原理
数珠磨き機とボール磨き機の比較
特徴
1PLCと工業コンピュータによって制御されたシステム全体で, 原材料の供給,プレミックス,超細磨,フィルタリング,鉄の除去,噴霧乾燥と缶詰.
2インターフェイスタッチスクリーン表示と全体のシステムの実行状態を監視します.
3. 簡単にスイッチ磨きプロセスを実現するために,異なる磨きプログラムレシピを事前設定.
4実行データを自動的に保存し分析します
5高精度のセンサーと計測器は,安定と安全操作を維持します
労働費を節約し,効率を向上させ,顧客により多くの利益をもたらす.
一般的適用
新しいエネルギー:リチウムイオン電池,シリコン炭素,グラフェン,炭素ナノチューブ,アルミニウム膜スロー,PVDF膜スローなど
粉末:アルミナ,ジルコニア,シリコンカービッド,チタン二酸化物,カルシウム炭酸物,シリコン材料,セリウム酸化物,亜鉛酸化物,バリウムチタン酸物,MLCC,ボロンナイトライド,ボロンカービッド,磁気材料など
化学物質:自動車用塗料,家具塗料,防腐塗料,特殊塗料,カラーペスト,セラミックインク,UVインク,ガラスインク,オフセットインク,化粧品,医薬品,食品,農業や他の分野において.
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